某半导体设备制造厂客户因晶圆的洗涤工艺产生了含氨化工废水，储水量200吨/天。化工废泥里除氯离子外还具有氟化物和进样器天价属，治理 困难大。各地排放出规范的要求氯离子＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 工业废水材料及特征 晶圆进行维护清洁废水处理（通常的来源）：含氧化还原电位200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀流程废水处理方法：含少量铜、镍等天价属，pH值起伏大 CMP磨研废水处理工艺：含硅粒状及氟化物 治理 艺的流程 用于"电化学积累+膜转移+折点氯化"组成生产工艺： 处理过程 ：污泥脱水CaCl2除氟，调控pH在7.5-8. 反渗透膜控制系统 ：清除0.01μm以上的粉末物 反渗入果汁 ：将氧化还原电位浓缩液至1000mg/L超过 折点氯化 ：准确度掌握氯加药量，将高锰酸盐指数转化率为N2 铝离子交換 ：后勤保障天价属合格 进而实际效果 氯离子相对稳定＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 天价属硫含量远低于探测限 水中水回用率达75% 废水造成量才能减少40%